氧化鋁陶瓷坩堝滿足半導(dǎo)體等新興領(lǐng)域?qū)崈襞c界面控制的需求
2026-01-30
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氧化鋁陶瓷坩堝是以高純α-氧化鋁為原料，經(jīng)高溫?zé)Y(jié)而成的高性能實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)用耐火容器，憑借良好的耐高溫性、化學(xué)惰性與熱穩(wěn)定性，成為熔融、灼燒、灰化及高溫反應(yīng)中的載體。氧化鋁陶瓷坩堝性能遠(yuǎn)超石英、剛玉或金屬坩堝，在材料合成、貴金屬提純及分析化學(xué)領(lǐng)域備受青睞。
一、核心性能優(yōu)勢(shì)
超高耐溫：
可長(zhǎng)期使用于1600℃以下，短期承受1750℃高溫，遠(yuǎn)高于石英（約1100℃）和普通陶瓷；
強(qiáng)化學(xué)惰性：
對(duì)酸、堿、熔鹽及多數(shù)金屬熔體（如金、銀、銅、鉍）幾乎無(wú)反應(yīng)，避免樣品污染；
低熱膨脹系數(shù)；
抗熱震性?xún)?yōu)異，可承受快速升降溫（如從1000℃投入室溫水中不裂），適用于程序控溫實(shí)驗(yàn)；
高純低析出：
雜質(zhì)含量低，確保痕量分析（如ICP-MS）結(jié)果不受干擾。
二、典型應(yīng)用場(chǎng)景
分析化學(xué)：
用于樣品灰化（如食品、生物組織）、硫酸鹽灰分測(cè)定（ASTMD482）及XRF熔片制備；
材料合成：
高溫固相反應(yīng)、單晶生長(zhǎng)、熒光粉燒結(jié)等需潔凈環(huán)境的工藝；
冶金與貴金屬：
金、鉑等貴金屬熔煉與提純，因其不潤(rùn)濕、不合金化；
半導(dǎo)體與電子：
高純氧化物前驅(qū)體煅燒，避免金屬離子污染。
三、規(guī)格與選型要點(diǎn)
純度分級(jí)：
95%Al2O3適用于一般高溫作業(yè)；99.5%以上用于高純或半導(dǎo)體領(lǐng)域；
形狀多樣：
常見(jiàn)高型、扁型、帶嘴、帶蓋等，容量從5mL至500mL可選；
壁厚設(shè)計(jì)：
厚壁型抗機(jī)械沖擊強(qiáng)，薄壁型升溫快、熱響應(yīng)靈敏。
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